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机译:低压化学气相沉积法制备的原位掺杂多晶硅的化学性质及性能概述
Polycrystalline silicon; Electrical-properties; Lpcvd polysilicon; Growth-kinetics; Films; Surface; Reactor; Silane; Rates; Gas;
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机译:UHV化学气相沉积未掺杂和原位掺杂的多晶硅膜