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Cleaning technology for advanced devices beyond 20 nm node

机译：超过20 nm节点的先进设备的清洁技术

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来源
《Diffusion and Defect Data. Solid State Data, Part B. Solid State Phenomena》 |2013年第null期|共6页
作者
Ogawa Y.;
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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类半导体物理学;
关键词
Contamination control; Drying; Pattern damage; Precise etching;

机译：污染控制;干燥;图案损坏;精确蚀刻;

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