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机译:衬底偏压,衬底温度和脉冲频率对脉冲直流反应磁控溅射沉积氮化铬涂层微观结构的影响
Pulsed direct current(DC)reactive magnetron sputtering; texture; chromium nitride(CrN); pulse frequency; substrate bias; substrate temperature;
机译:衬底偏压,衬底温度和脉冲频率对脉冲直流反应磁控溅射沉积氮化铬涂层微观结构的影响
机译:脉冲频率和基体偏压对脉冲直流磁控溅射沉积CrN涂层力学性能的影响
机译:溅射参数和氮对直流反应磁控溅射沉积在钢基底上的氮化铬薄膜微观结构的影响
机译:脉冲频率和衬底偏压对脉冲DC磁控溅射沉积CRN涂层机械性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:中频,高功率脉冲和直流磁控溅射在低温生长低摩擦耐磨无定形氮化碳薄膜