...
首页> 外文期刊>Journal of Electronic Materials >Damage Formation during 1.0 MeV Si Self-Implantation at Low Temperatures
【24h】

Damage Formation during 1.0 MeV Si Self-Implantation at Low Temperatures

机译:低温下1.0 MeV Si自注入过程中的损伤形成

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号