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机译:通过串行辐射处理和微波退火降低半导体异质结构中p-n结的深度
Optimization of Implanted-Junction Rectufier; Radiation Processing; Microwave Annealing;
机译:通过串行辐射处理和微波退火降低半导体异质结构中p-n结的深度
机译:材料辐射处理在提高半导体异质结构中p-n结清晰度方面的应用
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机译:近曲面退火的优化近表面退火,降低半导体异质结构中P-N结的深度
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机译:具有固溶处理的金属氧化物半导体和介电膜的可穿戴式1 V工作薄膜晶体管通过低温深紫外光退火在低温下制成
机译:使用串行辐射处理和微波退火可减小半导体异质结构中p–n结的深度
机译:使用微波选择性地退火异质结构的方法和设备