机译:甲硅烷基化聚(4-羟基苯乙烯)作为负电子束抗蚀剂
Silylated poly(4-hydroxystyrene)s; Poly(4-tert-butyldimethylsilyloxystyrene); Radical polymerization; Gel permeation chromatography; Electron beam resists;
机译:甲硅烷基化聚(4-羟基苯乙烯)作为负电子束抗蚀剂
机译:极紫外和电子束平版印刷术中基于聚(4-羟基苯乙烯)的化学放大抗蚀剂的自由基阳离子动力学
机译:聚(4-羟基苯乙烯)及其共聚物的自由基阳离子对极端紫外线和电子束的抵抗作用
机译:暴露于电子束中的薄膜中生成的聚(4-羟基苯乙烯)自由基阳离子的动力学
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:聚苯乙烯负性抗蚀剂用于高分辨率电子束光刻
机译:干开采的电子束抗蚀剂。氨基结合聚(α-甲基苯乙烯)的合成和抗蚀性评价。