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Etude de Sa microstructure de couches minces par diffraction des rayons X : description analytique des profils de raie

机译:X射线衍射研究其薄膜微结构:线轮廓的分析描述

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摘要

Nous proposons un modele cinematique permettant de decrire de facon analytique les profils de raie de diffraction des rayons X de couches minces epitaxiees. Compare aux modeles analytiques existant, celui-ci permet de prendre en compte plusieurs types de defuuts simultanement, notamment la rugosite du subslral, celle de la surface de la couche, et les fluctuations aleak) ires (cumulatives ou non) de distance interreliculaire. Cette description peut s'appliquer aux cas de couches minces nanometriques (de quelques dizaines de nanometres a quelques centaines de nanometres) ainsi qu'aux couches ultra-minces (quelques Angstroms). Les profils de raie sont ai'fectes differemment selon la nature des defauts presents, ce qui permet d'envisager l'application de ce modele pour la determination quantitative des proprietes microstructurales des couches de facon simple et routiniere.
机译:我们提出了一种运动学模型,可以分析性描述外延薄膜的X射线衍射线轮廓。与现有的分析模型相比,这可以同时考虑多种类型的缺陷,特别是下sl骨的粗糙度,层表面的粗糙度以及突触间距(晶状体间距)(无论是否累积)。该描述可以应用于纳米薄层(从几十纳米到几百纳米)以及超薄层(几埃)的情况。根据存在的缺陷的性质,线轮廓会受到不同的影响,这使得可以考虑使用此模型以简单且常规的方式定量确定层的微结构特性。

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