机译:PECVD由HMDS前驱体合成的CGed Si(C,N)薄膜的机械和场致发射特性
Plasma CVD; Liquid alkoxide precursor; SiCN film; Field emission;
机译:PECVD由HMDS前驱体合成的CGed Si(C,N)薄膜的机械和场致发射特性
机译:PECVD合成的氯掺杂类金刚石碳薄膜的增强的场发射特性
机译:生长温度对无催化剂PECVD合成碳纳米壁/纳米管薄膜结构和电子场发射性能的影响
机译:长径比和SP〜2 / SP〜3含量对N_2掺入PECVD生长碳膜场发射性能的影响
机译:通过等离子合成的金刚石和相关薄膜的场电子发射增强了化学气相沉积。
机译:通过PECVD在金属合金基底上合成的碳纳米管场发射体用于X射线源应用中的定制紧凑型场致发射器件
机译:用HMDS前体与远程PECVD系统用C2H2稀释气体使用HMDS前体沉积SiC:H膜的表征
机译:长径比和sp2 / sp3含量对Ns掺杂pECVD生长碳膜场发射性能的影响