IMEC/193-NM-LITHOGRAFIE BIS AN DIE PHYSIKALISCHEN GRENZEN AUSGEREIZT

摘要

IMEC gibt die Fortsetzung seines Industrial Affiliation Programms fur 193-nm-Li-thografie bekannt und nutzt zur Weiterentwicklung der Lithografie uber die 100-nm-Grenze hinaus ein High NA 193 nm Step-und-Scan-System. 1999 hat IMEC sein Industrial Affiliation Programm (IIAP) fur 193-nm-Lithografie vorgestellt, das auf dem ersten Full-Field Step-und-Scan-System PAS5500/900 von ASML basiert und die Einfuhrung der 193-nm-Techno-logie beschleunigt. Bei diesem System kommen Linsen mit einer maximalen numerischen Apertur (NA) von 0,63 zum Einsatz. Bei diesem Programm hat sich IMEC auf die kritischen Lithografie-Grenzen von 130-nm- und 100-nm-CMOS-Technologien konzentriert; die Entwicklung dieser Technologien wird kontinuierlich fortgesetzt.