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机译:工艺参数和沉积后退火对射频磁控溅射(Ba-0.5,Sr-0.5)TiO3薄膜的光学,结构和微波介电性能的影响
barium strontium titanate thin films; RF magnetron sputtering; microwave dielectric properties; ELECTRICAL-PROPERTIES; BATIO3; ABSORPTION; TEMPERATURE; TUNABILITY; CONSTANTS;
机译:工艺参数和沉积后退火对射频磁控溅射(Ba-0.5,Sr-0.5)TiO3薄膜的光学,结构和微波介电性能的影响
机译:工艺参数和沉积后退火对脉冲激光沉积Bi_(1.5)zn_(1.0)nb_(1.5)o_7薄膜的微波介电和光学性能的影响
机译:工艺参数对硫族化物纳米结构射频磁控溅射溅射薄膜的结构,光学和电学性能的影响
机译:沉积退火对RF磁控溅射β-GA_2O_3薄膜结构和光学性质的影响
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)