机译:在较低的基板温度下使用CH4 + CO2 + H-2气体混合物通过DC等离子体CVD合成硼掺杂的金刚石薄膜,并形成n-Si / p金刚石异质结
Diamond films; Dc plasma cvd; Substrate temperature; Heterojunction; Chemical vapor-deposition; Polycrystalline diamond; Schottky diodes; Barrier height; Growth;
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机译:DC电弧等离子体射流合成金刚石膜:衬底温度对金刚石膜质量的影响
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