机译:非晶氢化碳膜的掩模,用于硅晶片的化学抛光和化学切割
机译:非晶氢化碳膜的掩模,用于硅晶片的化学抛光和化学切割
机译:六甲基乙硅烷的离子束诱导化学气相沉积法,用于氢化非晶碳化硅和碳氮化硅膜
机译:退火对氢化非晶碳和氢化非晶氮化碳薄膜光学和化学键合性能的影响
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:一种在大气压下化学气相沉积制备氢化非晶硅薄膜的简单方法。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:离子轰击能量通量对自由基注入等离子体增强化学气相沉积生长的化学成分对化学成分的影响和氢化非晶碳膜的结构
机译:研究氢化无定形碳薄膜的化学,机械和表面性质