机译:离子轰击能量通量对自由基注入等离子体增强化学气相沉积生长的化学成分对化学成分的影响和氢化非晶碳膜的结构
机译:离子轰击能量通量对自由基注入等离子体增强化学气相沉积生长的化学成分对化学成分的影响和氢化非晶碳膜的结构
机译:气体停留时间对等离子增强化学气相沉积法生长的氢化非晶碳膜近缘X射线吸收精细结构的影响
机译:CH_4 / H_2的气体停留时间对自由基注入等离子体增强化学气相沉积过程中非晶碳膜sp〜2分数和离解甲基密度的影响
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积制备的氢化非晶碳膜
机译:低能离子轰击对非晶碳薄膜物理气相沉积的影响。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。