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机译:目标电流的峰值决定了大功率脉冲磁控溅射过程中的沉积速率损失
HIPIMS; Growth rate; Deposition rate; Magnetron sputtering; Ionized PVD;
机译:目标电流的峰值决定了大功率脉冲磁控溅射过程中的沉积速率损失
机译:反应性高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)沉积氧化钛膜:峰值电流值对从金属态过渡到有毒态的影响
机译:单圆柱靶脉冲直流磁控溅射沉积功率对掺铝ZnO薄膜结构和电性能的影响
机译:Ag薄膜高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)沉积的峰值功率速率缩放的模型预测和经验确认
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:目标电流的峰值幅度决定了高功率脉冲磁控管溅射过程中的沉积速率损失