机译:在1.6 kJ等离子体聚焦装置中通过脉冲离子束烧蚀制备硅化镁薄膜
Magnesium silicide; Microstructure; Plasma focus; Pulsed ion beam ablation; XRD;
机译:在1.6 kJ等离子体聚焦装置中通过脉冲离子束烧蚀制备硅化镁薄膜
机译:等离子体聚焦装置中脉冲离子束加速器制造DLC膜
机译:用于薄膜生产的脉冲离子束产生的烧蚀等离子体的形成和扩展
机译:通过强脉冲离子束蒸发产生的消融等离子体的新型制备方法
机译:通过聚焦离子束注入和银金属化与薄膜硅化物层的集成形成纳米结构的硅化物。
机译:通过聚焦离子束使硅化钼薄膜非晶化来增强超导性
机译:脉冲离子束生产的消融等离子体的形成和扩展
机译:沉积速率对脉冲激光烧蚀Bi2sr2CaCu2O(8 + x)和Bi2sr(1.6)La(0.4)CuO(66 + x)外延薄膜生长的影响。