机译:氧化铈化学机械玻璃抛光:所选理化特性对抛光效率的影响
Chemical mechanical polishing; Ceria-based polishing powders; Polishing efficiency; Crystallinity; Cerium (III) content;
机译:氧化铈化学机械玻璃抛光:所选理化特性对抛光效率的影响
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)的磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:氧化铈和氧化锰浆料对玻璃基板的抛光机理
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:低介电常数聚合物和有机硅酸盐玻璃化学机械抛光的实验和力学模型。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:氧化铈和氧化锰浆料处理玻璃基板及其加工特性的抛光机理。
机译:缺陷集中在化学机械抛光mOs氧化物中