机译:通过CVD获得的硼化镁膜的化学组成
thin film; magnesium boride; CVD; XPS; depth profiling; RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY; MGB2 THIN-FILMS; SURFACE; STATE; AUGER;
机译:通过CVD获得的硼化镁膜的化学组成
机译:硼化物薄膜的工作功能和化学成分调查和氮化物
机译:PECVD制备的SiC薄膜热退火过程中化学成分和纳米结构的变化
机译:通过LPCVD方法制备的B / C / N薄膜的化学键和组合物
机译:层间利用率(包括金属硼化物),用于随后通过微波等离子体CVD在316和440C不锈钢上沉积NSD膜。
机译:SiO的组成和光学性质X 膜和(SiOX/二氧化硅ÿ)HFCVD沉积的结
机译:硼化物薄膜的工作功能和化学成分研究及氮化物