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机译:基板温度对使用电感耦合的Cl-2基等离子体蚀刻银膜的影响
Silver (ag); Etching; Substrate temperature; Etch product; Cl-2-based plasma; Oxidation; Oxygen;
机译:基板温度对使用电感耦合的Cl-2基等离子体蚀刻银膜的影响
机译:在O-2 / CF4和O-2 / SF6电感耦合等离子体中对超纳米晶金刚石膜进行高密度等离子体蚀刻。
机译:电感耦合氯基等离子体刻蚀用于薄膜晶体管液晶显示器的铜膜
机译:SF6 / Ar等离子体中BZN薄膜的电感耦合等离子体蚀刻
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
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