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机译:通过基于离子的离子注入系统通过单馈通施加RF和负高压脉冲来形成氢化非晶碳膜
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机译:工艺中加入H_2气体和H离子注入对双极型等离子体离子注入制备的氢化非晶碳膜微观结构的影响
机译:使用微秒脉冲直流电容耦合等离子体化学气相沉积系统制备氢化非晶碳膜,该系统在高达400 kHz的高频下运行
机译:表面微图案化对等离子体浸没离子注入和沉积产生的非晶氢化碳(a-C:H)膜内皮化的影响
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:氢化非晶碳膜中超润滑的界面不稳定性的原子尺度见解
机译:Si-DLC膜使用基于等离子体的离子注入技术,具有正负高压脉冲(II) - 用于热阻,摩擦和磨损的正脉冲高度的影响 -
机译:等离子体沉积的无定形氢化碳膜及其摩擦学性能