机译:基板温度对常压合成非晶碳膜物理性能的影响
Amorphous carbon film; Atmospheric pressure; Atmospheric pressure plasma CVD method; Substrate temperature;
机译:基板温度对常压合成非晶碳膜物理性能的影响
机译:X射线光电子能谱研究不同衬底温度下脉冲激光沉积合成非晶碳氮化物膜的结合性能
机译:大气压等离子体增强化学气相沉积在低温下合成的氢化非晶碳基薄膜的硬度和表面粗糙度
机译:底物温度对大气压等离子体增强CVD法合成的Sioc(-H)薄膜硬度和透明性的影响
机译:通过聚合物源化学气相沉积合成的非晶碳化硅和碳氮化硅薄膜的表征。机械结构和金属界面性能
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:大气压发光等离子体CVD法合成的非晶碳膜的性质
机译:电场和磁场,基板温度,压力和蒸发速率对气相沉积金属薄膜的成核,结构和残余性能的影响