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周兴泰; 邹健梧;
不详;
非晶碳膜; 射频溅射; 基片温度; 物理性能;
机译:基板温度对常压合成非晶碳膜物理性能的影响
机译:研究中频脉冲不平衡磁控溅射制备的氢化非晶碳膜的结构和物理性能
机译:CH_4气体和衬底温度对使用D_C面对靶溅射制备的氢化非晶碳(a-C:H)膜的影响
机译:热处理对磁控溅射沉积非晶碳氮膜的结构,力学和摩擦学性能的影响
机译:碳溅射在四面结合非晶碳膜沉积中的实验和计算研究。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:衬底偏压对VHF溅射制备的氢化非晶碳膜的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:非晶碳膜,非晶碳膜的制造方法以及涂覆有非晶碳膜的膜
机译:非晶碳膜,非晶碳膜的形成方法,导电构件和具有非晶碳膜的燃料电池双极板
机译:非晶碳膜,非晶碳膜的制造方法,具有非晶碳膜的导电性构件以及燃料电池分离器
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