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机译:棒阴极电弧激活沉积(RAD)-一种新的等离子体激活电子束PVD工艺
Ion bombardment; Plasma deposition; PVD;
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机译:通过反应电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积的微米级Gd _2O _3微米厚膜的工艺-结构-性能关系
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机译:通过等离子体活化的高速电子束物理气相沉积(EBPVD)沉积的金属条功能和装饰涂层
机译:通过反应电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积的微米厚氧化ado膜的工艺-结构-性能关系
机译:比较电子和自由基的后沉积反应与聚焦电子束诱导沉积产生的Pt纳米结构
机译:大功率电子束枪的研制(报告I):用LaB_6阴极产生大功率电子束(物理,过程,仪器与测量)
机译:反应电子束 - 物理气相沉积(EB-pVD)沉积的微米厚氧化钆薄膜的工艺 - 结构 - 性质关系。