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机译:反应性高功率脉冲磁控溅射氧化锆过程中的工艺稳定性和沉积速率的提高
HPPMS HIPIMS; reactive deposition; deposition rate; FILMS;
机译:反应性高功率脉冲磁控溅射氧化锆过程中的工艺稳定性和沉积速率的提高
机译:ZrO_2和Ta_2O_5薄膜在反应性大功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:ZrO_2和Ta_2O_5薄膜在反应性大功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:介电氧化物薄膜的反应性高功率脉冲磁控溅射中的工艺稳定性和沉积速率的显着提高
机译:用于薄膜晶体管应用的氧化锌的反应性大功率脉冲磁控溅射
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:大功率脉冲磁控溅射和脉冲磁控溅射沉积钇稳定的氧化锆薄膜