机译:脉冲反应性近场不平衡磁控溅射非晶氮化硅膜的制备及表面表征
a-SiNx; thin films; closed-field unbalanced magnetron sputtering; pulsed magnetron sputtering; pulsed substrate bias; optical band gap; valence band spectrum; THIN-FILMS; STRUCTURAL-PROPERTIES; ELECTRONIC-STRUCTURE; A-SINX; GAS; IMPLANTATION; DEPOSITION; ALLOYS;
机译:脉冲反应性近场不平衡磁控溅射非晶氮化硅膜的制备及表面表征
机译:脉冲反应性闭合场不平衡磁控溅射制备SiN_x薄膜的组成,结构和性能
机译:使用闭场不平衡双磁控管通过反应溅射制备的氮化硅纳米结构
机译:闭场不平衡磁控溅射沉积Er〜(3 +):Al_2O_3薄膜及其光致发光特性
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:射频磁控溅射在YBa2Cu3O7-δ涂层导体的不同缓冲结构上制备和表征La2Zr2O7膜
机译:氮掺杂无定形碳(A-C:N)薄膜的合成和润滑性能通过闭合磁阻磁控溅射法