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机译:石墨烯纳米带开口边缘的铝层形成原子层沉积反应机理和动力学的理论研究
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机译:臭氧和氧等离子体辅助氧化铝原子层沉积过程中的表面反应机理
机译:二甲基氨基-2-丙氧基铜和二乙基锌沉积铜原子层的动力学和覆盖率依赖性反应机理
机译:氧化铪原子层沉积的生长研究与反应机理
机译:使用基于臭氧的ALD(原子层沉积)的高K电介质沉积(氧化铝),用于石墨烯基器件。
机译:氮掺杂的理论研究边缘缺陷的石墨烯纳米带作为氧气的电催化剂还原反应
机译:二甲基氨基-2-丙氧基铜和二乙基锌沉积铜原子层的动力学和反应机理
机译:氧化欠电位沉积硫的薄层电化学研究及其在Cds电化学原子层外延沉积中的应用。 2. sTm研究。 (重新公布新的可用性信息)