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机译:薄膜应力导致晶片曲率对化学机械抛光工艺的影响
Chemical mechanical polishing; Two-body contact; Wafer curvature; Within wafer removal rate nonuniformity;
机译:薄膜应力导致晶片曲率对化学机械抛光工艺的影响
机译:二维晶片形貌化学机械抛光过程中接触压力的解析模型
机译:化学机械抛光过程中晶片表面的应力和不均匀性的研究
机译:曲率诱导的晶圆下压力分布及其对化学机械抛光过程的影响
机译:研究化学机械抛光过程中晶片下方的流体行为。
机译:化学和机械应力对芽孢杆菌和假单胞菌荧光的效果单和双物种生物膜去除
机译:磨料加工和抛光技术。硅晶片的化学机械抛光技术。