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Transport properties of thermally oxidized porous silicon

机译:热氧化多孔硅的传输性能

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摘要

The process of current transfer in thermally oxidized porous silicon has been studied. A model based on the combination of hopping and tunneling mechanisms of charge transport is proposed. The concentration of charge traps and the mobility of charge carriers are evaluated using the current-voltage characteristics measured at 100 and 300 K.
机译:已经研究了热氧化多孔硅中的电流转移过程。提出了一种基于电荷传输的跳跃和隧穿机制相结合的模型。使用在100和300 K下测得的电流-电压特性评估电荷陷阱的浓度和载流子的迁移率。

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