机译:用于UV纳米压印光刻的基于大挠度和高载荷的基于挠度的并行操纵器:第一部分:建模和分析
Flexure-based parallel manipulator; Beam-based flexure joints; Semi-analytic model; UV nanoimprint lithography;
机译:用于UV纳米压印光刻的基于大挠度和高载荷的基于挠度的并行操纵器:第一部分:建模和分析
机译:纳米压印光刻中印模变形的建模和仿真:利用背面凹槽提高残留层厚度均匀性
机译:固态平行板基于UV的纳米压印光刻中的均压印模和基材变形
机译:适用于UV纳米压印光刻技术的具有大工作空间和高有效载荷的基于三自由度空间挠曲的并联操纵器
机译:借助纳米压印光刻技术对微/纳米结构进行图案化和处理。
机译:紫外线印刷光刻:几何冲击纳米级图案填充性能
机译:纳米压印光刻中的印模偏转的建模和模拟:利用背面凹槽来增强残留层厚度均匀性