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Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization
Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization
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1.
ANALYSIS OF OXYGEN THERMAL DONOR FORMATION IN N-TYPE CZ SILICON
机译:
n型CZ硅中氧热供体形成分析
作者:
J.M. Rafi
;
E. Simoen
;
C. Claeys
;
A.G. Ulyashin
;
R. Job
;
W.R. Fahrner
;
J. Versluys
;
P. Clauws
;
M. Lozano
;
F. Campabadal
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
2.
STUDY BY SPECTROELLIPSOMETRY OF THE InP SURFACE EVOLUTION BY CERIUM ACIDIC SOLUTION
机译:
铈酸性溶液的INP表面逸出的光谱梭子术研究
作者:
B. CANAVA
;
J. VIONERON
;
A. ETCHEBERRY
;
M. STCHAKOVSKY
;
J.P. GASTON
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
3.
RECENT DEVELOPMENTS IN UNCLEAR METHODS IN SUPPORT OF SEMICONDUCTOR CHARACTERIZATION
机译:
近期发展不明确的方法支持半导体表征的方法
作者:
B. Brijs
;
H. Bender
;
C. Huyghebaert
;
T. Janssens
;
W. Vandervorst
;
K. Nakajima
;
K. Kimura
;
A. Bergmaie
;
G. Dollinger
;
J. A. van den Berg
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
4.
CHARACTERIZATION BY ELECTROCHEMISTRY AND CHEMICAL SURFACE ANALYSIS OF AN OXIDE FILM ON n-InP
机译:
用N-InP电化学和氧化膜的化学表面分析的表征
作者:
N. C. QUACH
;
I. GERARD
;
N. SIMON
;
A. ETCHEBERRY
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
5.
CHARACTERIZATION OF HEAVY METAL CONTAMINATION BY CAPACITANCE-FREQUENCY METHOD
机译:
电容频率法表征重金属污染
作者:
Kazuhiro Hara
;
Mitsuru Takahashi
;
Haruhiko Yoshida
;
Seigo Kishino
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
6.
CHARGING EFFECTS ON FERROELECTRIC SBT THIN FILMS IMAGED BY NONCONTACT ELECTROSTATIC FORCE MICROSCOPY
机译:
非接触式静电力显微镜成像对铁电SBT薄膜的充电效果
作者:
Norbert Junghans
;
B. O. Kolbesen
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
7.
SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY IN THE VUV RANGE APPLIED TO THE CHARACTERIZATION OF ATOMIC LAYER DEPOSITED HfO_2, Al_2O_3 AND HfAlO_x THIN LAYERS FOR HIGH K DIELECTRICS
机译:
VuV范围内的光谱椭圆形式应用于高k电介质的原子层沉积HFO_2,AL_2O_3和HFALO_X薄层的表征
作者:
P. Boher
;
C. Defranoux
;
S. Bourtauld
;
J.P. Piel
;
H. Bender
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
8.
MEASUREMENT OF LOCAL STRAIN IN SEMICONDUCTOR MATERIALS BY USING SYNCHROTRON X-RAY MICROBEAM
机译:
使用同步X射线微沟测量半导体材料中局部应变
作者:
J. Matsui
;
Y. Tsusaka
;
Y. Kagoshima
;
K. Yokoyama
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
9.
THE APPLICATION OF SYNCHROTRON RADIATION TO SEMICONDUCTOR MATERIALS CHARACTERISATION
机译:
同步辐射对半导体材料表征的应用
作者:
R. Barrett
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
10.
QUANTIFICATION ISSUES OF TRACE METAL CONTAMINANTS ON SILICON WAFERS BY MEANS OF TOF-SIMS AND ICP-MS
机译:
通过TOF-SIMS和ICP-MS对硅晶片痕量金属污染物的量化问题
作者:
P. Rostam-Khani
;
P. Vullings
;
G. Noij
;
W. Claassen
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
11.
PHYSICAL CHARACTERIZATION OF THDSf HfO{sub}2 LAYERS BY THE COMBINED ANALYSIS WITH COMPLEMENTARY TECHNIQUES
机译:
互补技术组合分析的THDSF HFO {Sub} 2层的物理特征
作者:
H. Bender
;
Th. Conard
;
O. Richard
;
B. Brijs
;
J. Petry
;
W. Vandervorst
;
N. Rochat
;
C. Wyon
;
P. Mack
;
J. Wolstenholme
;
R. Vitchev
;
L. Houssiau
;
J.-J. Pireaux
;
A. Bergmaier
;
G. Dollinger
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
12.
HIGH SENSITIVITY MEASUREMENT OF NITROGEN IN CZOCHRALSKI SILICON
机译:
Czochralski硅中氮的高灵敏度测量
作者:
M.Porrini
;
M.G.Pretto
;
R.Scala
;
V.V.Voronkov
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
13.
SPARK SOURCE MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS OF LOW CARBON CONTENTS IN CRYSTALLINE SILICON
机译:
晶体硅中低碳含量的火花源质谱分析
作者:
B. Wiedemann
;
J. D. Meyer
;
H. Ch. Alt
;
H. Riemann
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
14.
ZrO_2 AS DIELECTRIC MATERIAL FOR DEVICE CHARACTERIZATION WITH SCANNING CAPACITANCE MICROSCOPY
机译:
ZrO_2作为具有扫描电容显微镜的装置表征的介电材料
作者:
W.Brezna
;
S.Harasek
;
H.Enichlmair
;
E.Bertagnolli
;
E.Gornik
;
J.Smoliner
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
15.
INFLUENCE OF COBALT CONTAMINATION IN THE MEASUREMENT OF DIFFUSION LENGTH OF P-TYPE CZ SILICON WAFERS
机译:
钴污染在P型CZ硅晶片扩散长度测量中的影响
作者:
Nicolas Pic
;
Maria Luisa Polignano
;
Daniele Caputo
;
Gianluca Salva
;
Massimo Sardo
;
Adrien Danel
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
16.
CHARACTERIZATION AND METROLOGY OF NOVEL MATERIALS INVOLVED IN ADVANCED CMOS PROCESSES
机译:
高级CMOS过程中涉及新型材料的特征和计量
作者:
C. Wyon
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
17.
ULTRA-TRACE ANALYSIS OF LIGHT ELEMENTS AND SPECIATION OF MINUTE ORGANIC CONTAMINANTS ON SILICON WAFER SURFACES BY MEANS OF TXRF IN COMBINATION 'WITH NEXAFS
机译:
用TXRF组合用TXRF与Nexafs硅晶片表面微量有机污染物的轻质分析
作者:
B. Beckhoff
;
R. Fliegauf
;
G. Ulm
;
J. Weser
;
G. Pepponi
;
C. Streli
;
P. Wobrauschek
;
T. Ehmann
;
L. Fabry
;
C. Mantler
;
S. Pahlke
;
B. Kanngiesser
;
W. Malzer
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
18.
QUANTITATIVE EVALUATION OF IRON AT THE SILICON SURFACE AFTER WET CLEANING TREATMENTS
机译:
湿式清洁处理后硅表面铁的定量评价
作者:
D. Caputo
;
P. Bacciaglia
;
C. Carpanese
;
M. L. Polignano
;
P. Lazzeri
;
M. Bersani
;
L. Vanzetti
;
P. Pianetta
;
L. Moro
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
19.
MACROSCOPIC AND MICROSCOPIC PHOTOLUMINESCENCE MAPPING SYSTEM APPLICABLE TO 300 mm WAFERS
机译:
宏观和微观光致发光映射系统适用于300毫米晶圆
作者:
Zhiqiang Li
;
Michio Tajima
;
Ryosuke Shimidzu
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
20.
FOCUSED ION BEAM ANALYSIS OF Cu/LOW-k METALLIZATION STRUCTURES
机译:
Cu / Low-K金属化结构的聚焦离子束分析
作者:
H. Bender
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
21.
RECENT DEVELOPMENTS IN NUCLEAR METHODS IN SUPPORT OF SEMICONDUCTOR CHARACTERIZATION
机译:
核方法支持半导体表征的最新发展
作者:
B. Brijs
;
H. Bender
;
C. Huyghebaert
;
T. Janssens
;
W. Vandervorst
;
K. Nakajima
;
K. Kimura
;
A.Bergmaier
;
G. Dollinger
;
J.A. van den Berg
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
22.
POTENTIAL AND PITFALLS OF THE DIODE CHARACTERIZATION TECHNIQUE FOR ULSI DEVICES ANALYSIS
机译:
ULSI设备分析二极管表征技术的潜在和缺陷
作者:
A. Poyai
;
E. Simoen
;
C. Claeys
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
23.
COPPER BEHAVIOR IN BULK SILICON AND ASSOCIATED CHARACTERIZATION TECHNIQUES
机译:
散装硅和相关特征技术中的铜行为
作者:
T. Heiser
;
A. Belayachi
;
J.P. Schunck
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
24.
TXRF CHARACTERIZATION OF INHOMOGENEOUS SOLIDS: INFLUENCE OF SURFACE MORPHOLOGY
机译:
非均匀固体的TxRF表征:表面形态的影响
作者:
NIKOLAI V. ALOV
;
KIRILL V. OSKOLOK
;
AXEL WITTERSHAGEN
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
25.
PARK SOURCE MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS OF LOW CARBON CONTENTS IN CRYSTALLINE SILICON
机译:
晶体硅中低碳含量的公园源极谱分析
作者:
B. Wiedemann
;
J. D. Meyer
;
H. Ch. Alt
;
H. Riemann
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
26.
METROLOGY REQUIREMENTS OVER THE NEXT 15 YEARS
机译:
在未来15年的计量要求
作者:
Alain C. Diebold
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
27.
OPTICAL SURFACE ANALYSIS OF TRANSPARENT SUBSTRATES FOR MANUFACTURING APPLICATIONS
机译:
用于制造应用的透明基板的光学表面分析
作者:
Laurie Bechtler
;
Vamsi Velidandla
;
Gale Lane
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
28.
DETERMINATION OF THE ALUMINUM-INDUCED OXIDE CHARGE BY AC SURFACE PHOTO VOLTAGE MEASUREMENTS IN N-TYPE SILICON
机译:
N型硅的AC表面光电压测定测定铝诱导的氧化物电荷
作者:
Hirofumi Shimizu
;
Masanori Ikeda
;
Ryuhei Shin
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
29.
PHYSICAL CHARACTERIZATION OF THIN HfO_2 LAYERS BY THE COMBINED ANALYSIS WITH COMPLEMENTARY TECHNIQUES
机译:
互补技术的组合分析薄HFO_2层的物理特征
作者:
H. Bender
;
Th. Conard
;
O. Richard
;
B. Brijs
;
J. Petry
;
W. Vandervorst
;
Chr. Defranoux
;
P. Boher
;
N. Rochat
;
C. Wyon
;
P. Mack
;
J. Wolstenholme
;
R. Vitchev
;
L. Houssiau
;
J-J. Pireaux
;
A. Bergmaier
;
G. Dollinger
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
30.
ANALYSIS OF TRACE VOC'S IN CLEANROOM AIR WITH PDMS/CARBOXEN SPME FIBRES
机译:
用PDMS / CARBOXEN SPME纤维分析净化卫浴空气中的痕量VOC
作者:
L. TUDURI
;
V. TEETAERT
;
V. DESAUZIERS
;
E.COFFRE
;
P. DUPONT
;
M. CAMENZIND
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
31.
CHARACTERIZATION OF TRACE ORGANIC CONTAMINATION ON SILICON SURFACES IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
机译:
半导体制造中硅表面痕量有机污染的特征
作者:
Koichiro Saga
;
Takeshi Hattori
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
32.
TWO DIMENSIONAL CARRIER PROFILING USING SCANNING CAPACITANCE MICROSCOPY
机译:
使用扫描电容显微镜的二维载波分析
作者:
N. Duhayon
;
T. Clarysse
;
D. Alvarez
;
P. Eyben
;
M. Fouchier
;
W.Vandervorst
;
L. Hellemans
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
33.
CLEANING CHEMISTRY WITH COMPLEXING AGENTS (CAs): DIRECT CONCENTRATION MEASUREMENT OF CAs WITH HPLC
机译:
用络合剂清洁化学(CAS):CAS与HPLC的直接浓度测量
作者:
S. Metzger
;
B.O. Kolbesen
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
34.
APPLICATION OF X-RAY FLUORESCENCE SPECTROMETRY IN CHARACTERIZATION OF HIGH-K ULTRA-THIN FILMS
机译:
X射线荧光光谱法在高k超薄膜表征中的应用
作者:
C. Zhao
;
B. Brijs
;
F. Dortu
;
S. DeGendt
;
M. Caymax
;
M. Heyns
;
W. Besling
;
J. W. Maes
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
35.
HYDROGEN CONTAMINATION AND DEFECT GENERATION IN P-TYPE SILICON AND SILICON-GERMANIUM SCHOTTKY BARRIER TEST STRUCTURES
机译:
P型硅和硅锗肖特基屏障测试结构中的氢污染和缺陷产生
作者:
F. Volpi
;
A.R. Peaker
;
I. Berbezier
;
A. Ronda
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
36.
NITROGEN CONCENTRATION MEASUREMENTS OF CZ SILICON
机译:
CZ硅氮浓度测量
作者:
N. Inoue
;
N. Fujiyama
;
H. Yagi
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
37.
IN-SITU ELECTROCHEMICAL SENSOR FOR EARLY DETECTION OF PLATING PROBLEMS IN COPPER METALLIZATION PROCESS
机译:
原位电化学传感器,用于早期检测铜金属化过程中电镀问题
作者:
Aleksander Jaworski
;
Kazimierz Wikiel
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
38.
ANALYTICAL CHARACTERIZATION OF PROCESS PARAMETER INFLUENCE ON THE INITIAL GROWTH AND CRYSTALLINITY OF ATOMIC LAYER DEPOSITION HFO_2 THIN FILMS
机译:
工艺参数对原子层沉积HFO_2薄膜初始生长和结晶度影响的分析特征
作者:
D. Blin
;
N. Rochat
;
G. Rolland
;
P. Holliger
;
F. Martin
;
J.-F. Damlencourt
;
T. Lardin
;
P. Besson
;
S. Haukka
;
M.-N. Semeria
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
39.
WATCHING CHIPS WORK: OPTICAL IMAGING OF HOT CARRIERS IN ICs
机译:
观看芯片工作:IC中的热载波的光学成像
作者:
J. C. Tsang
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
40.
HIGH RESOLUTION X-RAY REFLECTOMETRY: THEORY, PRACTICE, ACCURACY AND PRECISION
机译:
高分辨率X射线反射区:理论,实践,准确性和精度
作者:
R. J. Matyi
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
41.
IN-LINE AND NON-DESTRUCTIVE ANALYSIS OF EPITAXIAL Si_(1-x-y) Ge_xC_y BY SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY AND COMPARISON WITH OTHER ESTABLISHED TECHNIQUES
机译:
通过光谱椭圆形测定法对外延Si_(1-X-Y)Ge_xc_y的直接和非破坏性分析,并与其他建立技术的比较
作者:
R.Loo
;
P. Meunier-Beillard
;
R. Delhougne
;
T. Koumoto
;
L. Geenen
;
B. Brijs
;
W. Vandervorst
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
42.
NOISE DIAGNOSTICS OF ADVANCED SILICON SUBSTRATES AND DEEP SUBMICRON PROCESS MODULES
机译:
先进硅基板和深亚微米工艺模块的噪声诊断
作者:
E. Simoen
;
A. Mercha
;
C. Claeys
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
43.
ZrO{sub}2 AS DIELECTRIC MATERIAL FOR DEVICE CHARACTERIZATION WITH SCANNING CAPACITANCE MICROSCOPY
机译:
ZrO {Sub} 2作为具有扫描电容显微镜的器件表征的介电材料
作者:
W. Brezna
;
S. Harasek
;
H. Enichlmair
;
E. Bertagnolli
;
E. Gornik
;
J. Smoliner
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
44.
CHARACTERIZATION OF NANO-LAMINATE STRUCTURE USING GRAZING INCIDENCE XRD AND ATR-FTIR
机译:
使用放牧发病率XRD和ATR-FTIR的纳米层压结构的表征
作者:
C. Zhao
;
S. DeGendt
;
M. Caymax
;
M. Heyns
;
V. Consier
;
J.W. Maes
;
G Roebben
;
O. Van Der Biest
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
45.
CHARACTERIZATION OF BULK AND SURFACE PROPERTIES IN SEMICONDUCTORS USING NON-CONTACTING TECHNIQUES
机译:
使用非接触技术表征半导体中的块状和表面特性
作者:
A.CASTALDINI
;
D.CAVALCOLI
;
A.CAVALLINI
;
M.ROSSI
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
46.
IN-LINE COPPER CONTAMINATION MONITORING USING NON-CONTACT Q-V-SPV TECHNIQUES
机译:
使用非接触式Q-V-V-SPV技术在线铜污染监测
作者:
Matthias Boehringer
;
Johann Hauber
;
Sophie Passefort
;
Kwame Eason
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
47.
STRESS MANAGEMENT IN IC MANUFACTURING: μ-RAMAN SPECTROSCOPY REVISITED
机译:
IC制造中的压力管理:重新审视μ-拉曼光谱
作者:
L.F.Tz. Kwakman
;
D. Delille
;
M. Mermoux
;
A. Crisci
;
G. Lucazeau
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
48.
HIGH-RESOLUTION ANALYSIS OF THE HfO_2-SiO_2 INTERFACE BY SOFT X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY
机译:
通过软X射线光电子能谱的HFO_2-SIO_2接口的高分辨率分析
作者:
O. Renault
;
D. Samour
;
J. -F. Damlencourt
;
A. -M. Papon
;
F. Martin
;
S. Marthon
;
D. Blin
;
N. T. Barrett
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
49.
DIRECT OBSERVATION OF SUBSTITUTIONAL AND INTERSTITIAL IRON ATOMS IN SILICON BY HIGH-TEMPERATURE AND IN-BEAM MOESSBAUER SPECTROSCOPY
机译:
通过高温和束型Moessbauer光谱直接观察硅中的硅和间质铁原子
作者:
Yutaka Yoshida
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
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2003年
50.
Complexing Agents (CAs) for Semiconductor Cleaning Chemistries: Characterization of CA Lifetimes by UV/VIS-Spectroscopy
机译:
用于半导体清洁化学品的络合剂(CAS):通过UV / Vis光谱表征Ca Lifetimes
作者:
O. Doll
;
B. O. Kolbesen
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
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2003年
51.
CHARACTERIZATION OF ADVANCED SEMICONDUCTOR MATERIALS BY THERMAL DESOkPTION MASS SPECTROMETRY WITH ATMOSPHERIC PRESSURE IONIZATION
机译:
具有大气压电离的热解脱脱气质谱对先进半导体材料的表征
作者:
L. Carbonell
;
G. Vereecke
;
S. Van Elshocht
;
M. Caymax
;
M. Van Hove
;
K. Maex
;
P.W. Mertens
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
52.
AG ELECTRODEPOSITION ON n-INP FOLLOWED IN SITU BY PHOTOLUMINESCENCE
机译:
在N-InP上的Ag电沉积随后通过光致发光原位
作者:
I. GERARD
;
C. MATHIEU
;
P. TRAN-VAN
;
A. ETCHEBERRY
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
53.
EXTRACTION OF THE CAPACITANCE OF ULTRATHIN HIGH-K GATE DIELECTRICS
机译:
超薄高k门电介质电容提取
作者:
Samares Kar
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
|
2003年
54.
DETERMINATION OF OXYGEN IN SEMICONDUCTOR SILICON BY GAS FUSION ANALYSIS GFA - HISTORICAL AND FUTURE TRENDS -
机译:
气体融合分析GFA历史和未来趋势测定半导体硅氧烷氧气 -
作者:
Siegfried Pahlke
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
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2003年
55.
CHARACTERIZATION AND MECHANISM OF DEVICE FAILURE DUE TO HOLLOW VIA FORMATION
机译:
由于空心形成的特征和设备故障的特征及机制
作者:
Cory Hatcher
;
Ray Lappan
;
Jagdish Prasad
;
d Mike Engle
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
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2003年
56.
OPTICAL CHARACTERISATION OF HIGH-κ MATERIALS DEPOSITED BY ALCVD
机译:
ALCVD沉积的高κ材料的光学特征
作者:
E.Bellandi
;
B.Crivelli
;
A.Elbaz
;
M.Alessandri
;
P.Boher
;
C.Defranoux
;
Electrochemical SocietyInc. and SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
Proceedings v.2003-03 and SPIE v.5133
会议名称:
《Symposium on analytical techniques for semiconductor materials and processes characterization》
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2003年
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