第30回真空展vacuum2008併詏「真空トピックス」の報告

摘要

VACUUM2008に併設の「真空トピックス」が，2008年9rn月10日（水）13-17時に東京ビッグサイトの会議棟605会議室rnにて開催された．本会は研究部会の9月定例研究会，並びrnにスパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部rn会）の第111回定例研究会として開催された．今回は，2009rn年の7月に「10th International Symposium on Sputteringrnand Plasma Processes（ISSP2009）」が開催されることから，rn記念すべき第10回ISSPのプレセッションとして「スパッタrnリング技術の新展開～第10回ISSPに向けて～」と題して，rnスパッタリングプラズマの解析から各種デバイスの生産技術rnにわたる広い分野のテーマについて第一線で活躍されているrn5名の方々に講演を頂いた．天候にも恵まれ，会場の収容定rn員を上回る166名の聴衆に参集頂き，活発な議論が行われrnた．