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Estimates of EEPROM device lifetime

机译:估计EEPROM设备寿命

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摘要

A method was developed to estimate EEPROM device life based on the consistency for breakdown charge, QBD, for constant voltage time dependent dielectric breakdown (TDDB) and constant current TDDB stress tests. Although an EEPROM works with a constant voltage, QBD for the tunnel oxide can be extracted using a constant current TDDB. Once the charge through the tunnel oxide, ΔQFG, is measured, the lower limit of the EEPROM life can be related to QBD/ΔQFG. The method is reached by erase/write cycle tests on an EEPROM.
机译:开发了一种方法,用于根据击穿电荷Q BD 的一致性,恒定电压时间相关的介电击穿(TDDB)和恒定电流TDDB应力测试来估计EEPROM器件的寿命。尽管EEPROM在恒定电压下工作,但是可以使用恒定电流TDDB提取隧道氧化物的QBD。一旦测量了通过隧道氧化物的电荷ΔQ FG ,EEPROM寿命的下限就可以与Q BD /ΔQ FG 。通过在EEPROM上进行擦除/写入循环测试可以达到该方法。

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