机译:OH和填隙h_2浓度依赖于X射线诱导的iii型熔融石英吸收的强度
机译:合成条件对III型熔融硅中ARF准分子激光和X射线诱导的B-2-α带的存在与不存在的影响
机译:ArF激光诱导熔融石英(III型)中的脉冲吸收:建模注量和重复速率依赖性
机译:羟基含量对热极化III型熔融石英中二阶非线性的影响
机译:激光诱导熔融二氧化硅的背面湿法蚀刻:吸收系数依赖性
机译:硅浓度对三种草皮中草组织化学组成和分解速率以及吸水率的影响。
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:合成熔融二氧化硅中KRF-excimer-Laser诱导的特性:200nm诱导吸收和内部吸收的强度之间的关系。
机译:脉冲持续时间对熔融石英基板上多孔二氧化硅减反射涂层1064nm激光损伤阈值的依赖性