机译:反应磁控溅射法制备Eu掺杂氧化碲薄膜的结构和光学参数
Gdansk Univ Technol Fac Appl Phys & Math Dept Solid State Phys Ul Gabriela Narutowicza 11-12 PL-80233 Gdansk Poland;
Thin films; magnetron sputtering; tellurium oxides; europium dopant; photoluminescence;
机译:反应性直流磁控溅射法制备掺银氧化铟薄膜的电学和光学性质
机译:(152462)通过直流反应磁控溅射制备的单相铟掺杂的氧化铜膜:基板温度对微观结构,光学和电气的影响
机译:溅射参数对射频磁控溅射沉积方法制备的TiO_2薄膜物理性能和光催化活性的影响
机译:反应磁控溅射制备的W掺杂钒氧化物薄膜的结构表征
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构Cr掺杂CdO薄膜的温度依赖性结构和光学性质