机译:热丝化学气相沉积法在硅上外延生长立方碳化硅
Univ Colorado, ECEE Dept, CB 425, Boulder, CO 80309 USA;
BASiC 3C Inc, 1830 Boston Ave, Longmont, CO 80501 USA;
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3C-SiC; Heteroepitaxy; Hot-filament chemical vapor deposition; Raman spectroscopy; X-ray diffraction;
机译:通过固体石墨和硅源的偏压辅助热丝化学气相沉积法在硅上外延生长β-SiC
机译:立方碳碳酸薄膜生长和热丝化学气相沉积的表征
机译:使用水平热壁化学气相沉积法在直径为150毫米的晶片上生长碳化硅外延层
机译:大晶粒多晶硅模板上外延硅生长的热线化学气相沉积
机译:通过低温化学气相沉积在硅上选择性外延生长碳化硅。
机译:逆扩散化学气相沉积法合成碳化硅膜的透气性能
机译:使用甲基三氯硅烷化学气相沉积在轴上碳化硅衬底上外延生长碳化硅