長尺大気圧マイクロ波プラズマの生成と表面処理への応用

摘要

近年の電子デバイス製品の需要増加に伴い，基板の大型化，プロセスの高速化や低コスト化が課題となっており，特に大面積のガラスや樹脂フィルム上へ電子デバイスを形成する技術が注目されている。電子デバイス製造においては表面のクリーニング，表面の改質，薄膜形成，アツシング，エッチングなど多くの場面でプラズマプロセスが用いられている。プラズマはドライ環境で，化学的に活性な状態を作り出せることから，環境負荷が低く，坻温でのプロセスをおこなうことができるという利点がある。また，この半世紀でプラズマ生成の技術の改良も進められ，基板の大型化とともにプラズマ装置の大型化，プラズマ密度向上による高速処理化が進hできた、従来では，このような大面積プラズマプロセスの多くは減圧環境においてプラズマを生成することによっておこなわれている。しかし，処理対象物がメートル級のガラスやフィルムロールなどの大きなものとなると真空容器やプラズマ装置もメートル級のものが必要となるため，装置コストともに設置面積や装置重量も大きなものとなり，大きな課題となっている。