マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置におけるマイクロ波とプラズマの自己無撞着解析に関する検討

摘要

This paper presents a self-consistent analysis of microwave and plasma in microwave excited surface-wave plasma semiconductor processing equipment to aim to understand the mechanism of generation of the surface-wave plasma distribution. The simulation starts at the vacuum status for the size of equipment used in real experiment, and it is finally confirmed that surface-wave like plasma distributions are obtained.%マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置におけるプラズマが形成される現象を把握すべく，プラズマ中のマイクロ波と電子密度分布を同時に計算する自己無撞着のためのアルゴリズムの検討を行った。実際に用いられた装置形状において真空状態からシミュレーションを開始し，自己無撞着解析により徐々にプラズマを生成させ，最終的に表面波状のプラズマ分布が得られることを確認したので報告する。