机译:Si封装过程中Si0.8Ge0.2量子点的演变
USN, Res Lab, Washington, DC 20375 USA;
scanning tunneling microscopy; atomic force microscopy; X-ray photoelectron spectroscopy; SiGe heteroepitaxy; Si(100); Ge segregation; surface morphology; molecular beam epitaxy; MOLECULAR-BEAM EPITAXY; GE SURFACE SEGREGATION; TEMPERATURE-DEPENDENCE; ISLAND FORMATION; SI(001); GROWTH; STRAIN; SHAPE; PHOTOLUMINESCENCE; MORPHOLOGY;
机译:MPS封装CDS量子点和SiO_2 / MPS封装CDS量子点混合物薄膜光学性质的比较研究
机译:MPS封装CDS量子点和SiO2 / MPS封装CDS量子点混合薄膜光学性质的比较研究
机译:用两亲聚合物包封量子点的量子点聚合物纳米复合材料制备量子点
机译:使用UHVCVD生长的Si0.8Ge0.2 / Si应变多量子阱的光电流
机译:量子点-聚合物纳米复合材料:用于分散,封装和电子应用的新材料。
机译:发光单CdS量子点包裹的二氧化硅纳米粒子的合成及其在精密光学生物成像中的应用
机译:Perovskite量子点:通过溶胀收缩策略对优异的耐水策略来加强钙钛矿量子点的稳定性通过促进耐水性(adv。funct。Matter。39/2017)