机译:不同衬底温度下超声沉积氧化锡(SnO_2)薄膜的结构,光学和电学性质研究
Lab. VTRS, Faculty of Science & Technology, University of El-Oued, El oued 39000, Algeria,Faculty of Science, University of Biskra, Biskra 07000, Algeria;
Lab. VTRS, Faculty of Science & Technology, University of El-Oued, El oued 39000, Algeria,Faculty of Mathematics and Material Sciences, Univ. Ouargla, Ouargla 30000, Algeria;
Laboratoire de Photovoltaieque, Centre de Recherche et des Technologies de l'Energie, Technopole de Borj-Cedria, BP95, 2050 Hammam-Lif, Tunisia;
Lab. VTRS, Faculty of Science & Technology, University of El-Oued, El oued 39000, Algeria;
Tin oxide; Thin films; Spray ultrasonic; Four-point probe technique; X-ray diffraction;
机译:不同基底温度的喷镀氧化锡(SnO2)薄膜的结构,光学和电学参数之间的研究和相关性
机译:喷涂沉积的SnO_2:Sb薄膜的结构和电学性质随衬底温度的关系研究
机译:TiOx薄膜热氧化后的结构,光学,电学和微结构特性的研究:衬底温度和氧化温度的影响
机译:溶胶凝胶浸涂技术沉积锑氧化锑纤维薄膜结构,电气和光学性能的退火效应
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:基材温度对磁控溅射层逐层掺杂锌氧化物薄膜结构,光学和电性能的影响