枚葉式中電流イオン注入装置MC3-Ⅱ、GP

摘要

本装置は,次世代まで対応可能な注入品質と高生産性を併せ持つ枚葉式中電流ィオン注入裝置MC3-Ⅱ/WRを発展させた裝置である。多価ビーム電流を增大し,オートビームセットアッブ時間をさらに短縮することにより，中·高エネルギー領域の生産性を格段に向上させた。