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摘要

当社は、EUV (極端紫外線)をはじめとした最先端プロセス向け半導体フォトレジストの開発•評価体制強化のため、大阪工場(大阪市此花区)に新棟を建設するとともに、新規評価装置を導入することといたしました。2022年度上期の完成を目指します。
机译:开发半导体光致抗蚀剂用于诸如EUV(极端紫外线)•为了加强评估系统,我们将在大阪工厂(大阪市,大阪市,介绍新的评估装置,建造一座新建筑关于。我们的目标是完成2022财年的上半年。

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    《住友化学》 |2020年第2020期|79-83|共5页
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