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【24h】

A 65-nm SoC Embedded 6T-SRAM Designed for Manufacturability With Read and Write Operation Stabilizing Circuits

机译:65nm SoC嵌入式6T-SRAM,设计用于具有读写操作稳定电路的可制造性

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摘要

In the sub-100-nm CMOS generation, a large local Vth variability degrades the 6T-SRAM cell stability, so that we have to consider this local variability as well as the global variability to achieve high-yield SRAM products. Therefore, we need to employ some assist circuits to expand the SRAM operating margin. We propose a variability-tolerant 6T-SRAM cell layout and new circuit techniques to improve both the read and the write operating margins in the presence of a large Vth variability. By applying these circuit techniques to a 0.494-mum2 SRAM cell with a beta ratio of 1, which is an extremely small cell size, we can achieve a high-yield 8M-SRAM for a wide range of Vth values using a 65-nm low stand-by power (LSTP) CMOS technology
机译:在低于100 nm的CMOS世代中,较大的局部Vth变异性会降低6T-SRAM单元的稳定性,因此我们必须考虑这种局部变异性以及全局变异性才能获得高产量的SRAM产品。因此,我们需要采用一些辅助电路来扩展SRAM的工作裕度。我们提出了具有可变性的6T-SRAM单元布局和新的电路技术,以在存在较大Vth可变性的情况下提高读取和写入操作裕度。通过将这些电路技术应用于一个β值为β的0.494-mum2 SRAM单元,这是一个非常小的单元尺寸,我们可以使用65nm的低电压实现宽范围的Vth值的高产量8M-SRAM备用电源(LSTP)CMOS技术

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