机译:射频等离子体对栅栅Pt / SiO 2 sub> / Si MOS传感器检测氢的影响
Department of Electronics and Communication Engineering, Raj Kumar Goel Institute of Technology, Ghaziabad, India;
MOS capacitor; RF plasma; sensitivity; surface morphology;
机译:远程射频氢和氘等离子体处理对Hfo_2 / sio_2薄栅堆叠的可靠性降低
机译:在4%的氢-氮混合物中具有不同SiO_2膜厚度和Ni-门膜的MOS电容器氢传感器的比较
机译:射频和微波氧等离子体对Pd栅极MOS氢性能的影响
机译:堆叠的高k栅极介电材料的电性能:等离子体处理过的SiO_2界面层的远程等离子体CVD Ta_2O_5和(Ta_2O_5)_x(SiO_2)_(1-x)合金
机译:氢和氩的微型微波等离子体使用光发射光谱法研究。
机译:Pd-Ta2O5-SiO2-Si结构的基于MISFET的氢传感器在长期运行过程中的性能下降
机译:贝叶斯优化在改善TiO X / SiO y / C-Si异质结构中改善钝化性能的应用