机译:InGaP / InGaAs双掺杂沟道异质结构场效应晶体管(DDCHFET)的研究
Institute of Microelectronics, Department of Electrical Engineering, National Cheng-Kung University, 1 University Road, Tainan, Taiwan 70101, Republic of China;
机译:InGaP / InGaAs双三角掺杂沟道异质结构场效应晶体管的研究
机译:新型InGaP-InGaAs伪晶双掺杂沟道异质结构场效应晶体管(PDDCHFET)的研究
机译:具有调制的InGaAs掺杂通道的InGaP / InGaAs伪致机场效应晶体管的特性
机译:应变补偿p沟道InGaP / InGaAs异质结构场效应晶体管
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:阶梯通道厚度双栅隧道场效应晶体管的仿真研究
机译:MOCVD制备的高性能InGaAs / GaAs掺杂沟道异质结构场效应晶体管(HFET)
机译:增强肖特基势垒InGaas / al(x)Ga(1-X)作为应变通道调制掺杂场效应晶体管的表征