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机译:通过Czochralski技术生长的退火半绝缘p型InP,熔体中含Cu
ASCR, Inst Radio Engn & Elect, Prague 18251 8, Czech Republic;
ASCR, Inst Phys, Prague 18221 8, Czech Republic;
Charles Univ, Fac Math & Phys, CR-12116 Prague, Czech Republic;
INDIUM-PHOSPHIDE; DOPED INP; PHOTOLUMINESCENCE; DEFECTS; COMPLEXES; LINE;
机译:使用直拉法从熔体中生长的Cu +和Eu 2+掺杂的碱金属卤化物单晶的光学性质和辐照效应
机译:垂直梯度冻结和液体封装直拉法生长的半绝缘GaAs晶体的电学性质
机译:蒸汽压控制切克劳斯基技术(VCz)生长的半绝缘GaAs晶体中碳掺入的研究第一部分:实验和结果
机译:垂直区熔融技术生长的退火半绝缘GaAs的电学和光学性质
机译:通过蚀刻坑技术对轴轴生长的p型锗晶片脱位的检查
机译:退火生长的n型和p型调制掺杂GaInNAs / GaAs应变量子阱结构的磁输运研究
机译:多步晶圆退火对直拉生长半绝缘GaAs主阱的影响
机译:液体封装Czochralski法生长钛掺杂半绝缘Inp