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机译:双金属门INAS / SI异质结纳米线TFET的优化
Sungkyunkwan Univ Elect & Comp Engn Suwon South Korea;
Sungkyunkwan Univ Elect & Comp Engn Suwon South Korea;
Univ Michigan Elect Engn & Comp Sci Ann Arbor MI 48109 USA;
Sungkyunkwan Univ Elect & Comp Engn Suwon South Korea;
work function engineering; heterojunction double metal-gate tunnel field effect transistor; interface traps;
机译:INAS / GASB芯壳纳米线结构的优化,提高TFET性能
机译:使用有效的紧密绑定模式 - 空间NegF模型的III-V纳米线破裂差距异质结TFET的物理学和性能,使百万原子纳米线模拟
机译:使用有效的紧密绑定模式 - 空间NegF模型的III-V纳米线破裂差距异质结TFET的物理学和性能,使百万原子纳米线模拟
机译:纳米线异质结TFET和Si MOSFET在Lg = 13nm时的能效比较,包括P-TFET和变化注意事项
机译:垂直铁磁MnAs /半导体InAs异质结纳米线的合成与表征
机译:双门等腰梯形隧道场效应晶体管(DGIT-TFET)的设计优化
机译:Inas-si异质结纳米线隧道FET的分析:极限约束与体积
机译:In0.69al0.31as0.41sb0.59 / In0.27Ga0.73sb双异质结双极晶体管,带Inas0.66sb0.34接触层