机译:具有AIN中间层的GaN上的纳米层压HfO_2 / AI_2O_3电介质的界面和电学性质
Seoul Natl Univ Sci & Technol Seoultech Dept Visual Opt Seoul 01811 South Korea;
Seoul Natl Univ Sci & Technol Seoultech Dept Mat Sci & Engn Seoul 01811 South Korea;
AlN; GaN heterostructure; HfO2; Al2O3; Hf-Al-O;
机译:纳米胺化HFO2 / AL2O3电介质与ALN中间层的界面和电性能
机译:纳米硅化HfO_2 / LaAlO_3 / HfO_2介电质的物理和电学性能
机译:界面硫化和热退火对GaAs衬底上原子层沉积Al_2O_3栅电介质电学性能的影响
机译:HFO_2栅极电介质的界面结构和电性能
机译:用于层间介电应用的二氧化硅干凝胶的加工相关特性。
机译:以La2O3中间层的厚度为特征的HfO2 / Ge MIS电容器的电学性质和界面问题。
机译:GaN上的Al2O3 / TiO2纳米叠层电介质的电学特性