離間絶縁膜の平坦化用途から始まったCMPの利用最先端デバイスプロセスには必須の技術現在は生産性向上が最重要視され始める

摘要

CMPが80年代に開発されてから4半世紀が経rn過しようとしている。開発初期に提案された種々のrn研磨原理はロータリ式に集約され，当初別置きだっrnた洗浄機はビルトイン，モニタも組み込まれ，すでrnにCMPは最先端デバイスプロセスには必須の技術rnとなった。最近ではCoOやCoCなどの生産性と信rn頼性が重要視されてきている。本稿ではCMPに関rnする最新の課題と競争優位性を，プロセス?生産rn性?市場性?特許などの観点から報告する。