フォトマスクのリーディングメーカーDNPの市場動向と技術動向さらなる微細化に対応した開発が進む

摘要

一般的に半導体用フォトマスクの市場は，半導体市 場そのものと連動しており，これまでムーアの法則 に則った半導体の微細化とともに，次世代への移行 が順調に進んできた。この傾向は，基本的には今後 も続くと考えられる。ところが，最近の動向として， 半導体の品種による微細化要求·スピードの差が顕 著になってきている。すなわち，DRAM·フラッ シュメモリ·MPUなど，今後も微細化を追求する と思われる製品群と，SoCに代表される微細化の スピードが比較的遅くなった製品群とに大きく分 けられる傾向が従来よりも強くなってきている。こ の傾向は，特にロジック製品の商用ノードで言う 65nm～45nm世代から顕著になってきている。