フォトマスクの主流は130nm/180nmプロセスコスト高騰に対するメーカー各社の戦略半導体，材料，装置／検査装置の共同開発が進む

摘要

フォトマスクの微細化対応に伴うコスト高騰に，メ ーカー各社はどのような戦略で立ち向かおうとして いるのか，本稿では，大手フォトマスクメーカーの 対応を紹介する。