メディア研究所，リフトオフプロセスに新たな提案超純水を介しホーン型超音波で刬理

摘要

レジスタパターン上から成膜されたメタル膜などをレジストも含めて剥離して，下地層に成膜された膜をパタrnーンとして残すリフトオフプロセスは，MEMSやLED，SAWデバイス，HDD用ヘッドのバターン形成時なrnどに適用されているが，安全性，ランニングコスト,ダメージなどが課題となっている。メディア研究所は，rn超純水を介してホーン型超音波でリフトオフ処理を行う新型装置を，新たに製品ラインナップに加えた。